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橫山石寺洼石窟(石佛寺)

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橫山石寺洼石窟(石佛寺)
橫山石寺洼石窟(石佛寺)為文化旅游景點(diǎn)。

石寺洼石窟

石寺洼石窟位于橫山縣白界鄉(xiāng)陳家溝村北0.6公里處的半山坡上,石窟座西南向東北,窟前田疇交錯(cuò)?邧|約0.8公里處榆溪河由北向南緩緩流過,窟東1公里為西-包公路,窟西距橫山城80公里,北距榆林城僅20公里。石寺洼石窟營(yíng)造時(shí)代,因無碑刻佐證,又無史志記載,只根據(jù)窟的鑿造方式、造像組合、服飾比較、刻技等綜合分析,初步確定為北魏晚期。石窟呈方形,平頂微拱,進(jìn)深1.47米,寬1.48米,高1.68米?邇(nèi)三壁環(huán)壇,壇高約0.15—0.2米,壇上方三壁各鑿一拱形大龕(俗稱三壁三龕),龕高1.1-1.28米。龕內(nèi)鑿刻一佛二菩薩,佛像通高1.28米,高肉髻,身著交領(lǐng)右衽衣或通肩衣,結(jié)跏躍坐于仰蓮須彌座或呈舒相坐式,衣裙遮蔽臺(tái)座。菩薩袒胸露臂,胸飾瓔珞,瓔帶繞身,下著羊腸大裙,裙腳外展,跌足全力于高低仰蓮座上,多呈雙手合十或兩手交攏于胸前。窟外對(duì)刻二力士,頭戴氈帽或束髻,身披戰(zhàn)裙,大眼園睜,兩耳垂肩,相對(duì)應(yīng)的一手叉腰,另一拳高舉,左力士踩牛,右力士踩象,神態(tài)威嚴(yán)兇猛。

刻技以直平刀法為主,圓刀較少,刻線多呈階梯形,線條較為密集。佛和菩薩座多為高低仰蓮須彌座,造像頭大身短。二十世紀(jì)九十年代,村民炸石筑窯,將石窟前室炸毀。后石窟前原有石雕斗拱,窟檐被敲掉,石窟造像也因人為與自然的破壞,保存現(xiàn)狀較差。

石寺洼石窟是榆林市最早營(yíng)造的石窟之一,它的發(fā)現(xiàn)對(duì)進(jìn)一步尋找我市長(zhǎng)城沿線北朝故跡提供了重要線索。一九九九年四月,橫山縣人民政府將石寺洼石窟公布為縣級(jí)重點(diǎn)文物保護(hù)單位,六月份成立了文物保護(hù)領(lǐng)導(dǎo)小組,并劃定了保護(hù)范圍。重點(diǎn)保護(hù)區(qū):石寺洼石窟;一般保護(hù)區(qū):在重點(diǎn)保護(hù)區(qū)外東、南、西、北各外延30米;建設(shè)控制地帶:在一般保護(hù)區(qū)外,東外延120米,南外延20米,西外延30米,北以自然溝為界。二000年六月樹立了保護(hù)標(biāo)志碑。


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